7纳米制程工艺来了！国产DUV光刻机落地在即，中国院士却泼来冷水（7纳米duv工艺）

芯片被誉为是现代工业的掌上明珠，一纸芯片禁令使得国内企业都认识到了芯片的重要性，再加上国内又是最大的消费市场，每年在芯片进口上就要花费超过3000亿美元，可要知道，全球芯片的出口额不过也才4500亿美元左右。

短板不止一个如此看来，光是中国在芯片上的进口就已经占据了全球芯片出口额的2/3，但这样也反映出了一个问题，那就是中国在芯片制造领域之中很难实现完全的自主自足，对于国外企业的依赖性比较严重，所以在芯片禁令实施之后，中国意识到了这样的短板，而整个国内都迎来了一股造芯片的热潮。

在芯片制造过程之中，光刻机无疑是我们最大的短板，在光刻机市场之中，荷兰的asml一直都是龙头老大，在高端EUV光刻机市场之中，占据绝对垄断的地位，在次一代的DUV光刻机市场之中也拥有一定的优势，我们都知道如今芯片发展已经来到了先进制程的阶段之中，而这些先进制程芯片没有光刻机是没有办法制造出来的。

但因为禁令的缘故，导致国内没有办法进口EUV光刻机，使得国内在7纳米制程之上陷入到一种停滞不前的状态虽然EUV光刻机不能够进口，但是DUV光刻机确是能够进口的，并且在通过多次曝光之后，也能够生产出7纳米工艺。

台积电就曾经利用Due光科技生产制造出过7纳米，虽然在良品率上不能够达到最顶尖的标准，但是勉勉强强也是可以使用的国产光刻机来了而在DUV光刻机领域之中，阿斯麦，佳能，尼康都是佼佼者，另外还包括中国的上海微电子，虽然在高端光刻机市场之中阿斯麦一家独大，可在中低端光刻机领域之中，中国的上海微电子占据着很大的一部分市场份额。

上海微电子所生产的600系列是上海微电子目前能够实现量产的最先进的光刻机，这种光刻机能够用于90纳米工艺芯片的生产而经过几年的不断尝试，目前上海微电子已经掌握了高端光刻机的技术，并且直接从90纳米突破到了28纳米。

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最近有消息传来，其28纳米地位光刻机即将落地实现量产而这台光刻机的出现是打破了asml在国内所形成的彻底垄断，更重要的是，这台光刻机不仅能够实现28纳米以及14纳米等等先成熟制程的量产，还能够实现7纳米工艺芯片的量产，更没有使用到美国的任何技术以及设备或者是零部件的。

7纳米工艺制程眼看就要解决，国产光刻机也落地在即，可就在这个时候，中国院士却泼烂了冷水吴汉明表示，一台高端EUV光刻机的零部件需要十几万个，供应链企业多达5000家，光源来自美国，材料来自日本，而光学系统就是由德国提供的。

任何一个国家，任何一家企业想要独自实现，完成制造光刻机都是不现实的

我们必须要将光刻机产业链建起来来推动产业的发展其实严格意义上来讲，吴汉明的这番话并不是属于泼冷水，只是希望国内企业能够联动起来，真正打造出一条属于中国人自己的国产光刻机产业链，打造产业链，就必须要各个企业之间的相互努力，相互合作。

只有通过多方协作，广泛吸纳人才，才能够真正将产业链建立起来，单打独斗，闭门造车，我们永远都不能够迎来突破不管怎样，在这里还是希望国内各大企业能够全力合作，在保持竞争的同时，进行一定的合作能够在一定意义上促进国内光刻机以及芯片产业的不断发展，相信在各大企业个国家的支持之下，我们一定能够在光刻机领域之中完成完全的自给自足。