光刻机到位，中国芯进军7nm，国内院士：集成电路的短板很明显！（国内芯片光刻机巨头）

国内半导体，喜忧参半！当下的国内半导体与此前大不相同，就单从新增企业数量来说，一直处于暴增阶段，今年第一季度还新增企业8679家，同比增长302%此外在去年被纳入“实体清单”的中芯也拿到了许可，并且与荷兰签订了12亿的大单，其中就有光刻机（DUV），且中芯在追平台积电14nm制程之后，也被传出将会风险试产7nm芯片，可以说自从限制以来，国内半导体算是轰轰烈烈了！。

毕竟光刻机到位，中芯进军7nm，中国芯跑步入场。

但是问题也依然严重，有数据统计，去年国内在半导体销售方面突破了712亿美元，成为了全球最大的半导体设备市场，可是，就是这么大的市场，我们在尖端领域仍落后，甚至可以说在很多环节，都没有很好的优势前面提到的中芯，虽说是拿到了许可，但是到了现在，哪怕是一个小小的配件出口，老美都是卡得严，且以中芯的一条产线为例，超6成设备来自老美，而国产设备也就1成左右，这样的占比，实在是太少，。

而王阳元院士更是表示，高端芯片、材料、设备自给率低依然是中国集成电路产业的短板，我们需要加速了！

国内的挑战，一直都在以中芯个例为例，我们看到的是一个小小的零部件都很难拿到手，那么放大一点来看呢？老美对国内的限制，有何至于是采购芯片问题呢，比如EDA软件，比如材料和设备（特别是EUV曝光机），这两样，就够国内研究好久。

其实在去年的时候梁孟松就表示今年4月就会风险试产7nm，可EUV光刻机不到位，也是难办，而且这样的事情，三年前就已经发生了，那么国产替代可以吗？做得最好的就是上海微电子，一直被传将会交付28nm国产光刻机，却一直没了下文。

除了诸如EDA软件、光刻机之外，比如CVD、离子注入机、清洗机等等设备，都是以老美为主，我们在国产替代方面，也面临很大的挑战，那就是配套！“一代设备一代技术”，国内此前一直追求先进工艺，所以很多设备都是进口，现在碍于限制又想要实现国产替代，可这就是最难的地方，

简单来说这有点类似A型血的人接受B型血的供给，所以其难度是可想而知的不过当下国内也迎来了好时机，全球产能吃紧，这就给国产替代试错的机会，毕竟很多企业是“有就用”的思想，这样以来也能收到一定的数据反馈，更有利于国产发展！。

集成电路的短板很明显！提速正在发生！王阳元院士指出在高端芯片、材料、设备方面自给率低，是我们的短板，但其也提到我们正在加速，王阳元院士举例称2018年的时候，国产5nm蚀刻机与台积电进行合作之后，老美也放弃了对中微半导体的各种“限制”；而中微半导体将MOCVD设备推向市场的时候，Axitron、Vecco迅速将此前价值2000万的设备主动降到了600万。

除此之外，国内的环境也是极好的。比如前几天清华大学建起的集成电路学院，还有去年南京成立的芯片大学，我们更是从人才入手，加速补齐各项短板！

当然，除此之外，中芯量产14nm并在深圳扩产28nm以此增加国产比重占据市场；全球300多条晶圆主产线，超6成在中国区，还是主流尺寸等等等等，可以说国内是多股力量同时间段爆发出来了！国产替代，虽然很难，但已经在路上了，只是时间问题！