本文源自:金融界
金融界2025年3月8日消息，国家知识产权局信息显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司取得一项名为“等离子增强原子层沉积设备”的专利，授权公告号 CN 222557054 U，申请日期为 2024 年 2 月。
专利摘要显示，本实用新型提供了一种等离子增强原子层沉积设备，包括等离子管、电极组件和气体输入管路；等离子管包括 N 个等离子支管，N 个等离子支管沿等离子增强原子层沉积设备的高度方向顺次设置，N 为大于等于 2 的正整数；电极组件设有 N 组，每组电极组件均包括正电极和负电极，等离子支管设置于正电极和负电极之间，且 N 组电极组件与 N 个等离子支管一一对应设置；气体输入管路设有 N 组，N 组气体输入管路与 N 个等离子支管对应设置本实用新型能分别控制不同等离子支管内前驱体的电离程度，有利于使不同晶圆上的沉淀物薄膜达到相同的厚度，提高了同批次晶圆的均匀性。
天眼查资料显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司，成立于2018年，位于青岛市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1006720.789212万人民币。通过天眼查大数据分析，芯恩（青岛）集成电路有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目166次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息576条，此外企业还拥有行政许可55个。
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