光刻机风波再起！国产7nm芯片正式打破国外垄断（国产光刻机重大突破）

曾经ASML总裁说过一句话：给全套图纸，中国也造不出一台光刻机。可今时已经不同往日，现在中国不仅可以造出光刻机，而且连国产7nm芯片都已经打破了国外垄断。

光刻机风波再起9月15日，关于华为的禁令正式生效，9月16日，中科院院长白春礼在接受采访时，公开表态未来会将光刻机这类被国外“卡脖子”技术，列入到中科院的科研清单内，集全院的力量进行攻克9月17日，华为创始人任正非带队到中科院总部，就基础研究及关键技术发展进行了探讨交流。

9月18日，ASML全球副总裁公开表态：ASML将会加快在中国市场的布局

一石激起千层浪，连续四天时间科技界就发生了四件大事，颇有一种风雨欲来的压抑感自从华为事件过后，光刻机这个能决定着芯片生命的产品顿时被推到风口浪尖之上，网上关于光刻机的各种科普文章满天飞，而作为市场中EVU型光刻机的唯一提供者荷兰ASML公司，也在无意中被捧成了网红的身份。

在整个光刻机市场当中，高端光刻机已经被ASML牢牢占据了80%以上的市场份额，而5nm工艺的光刻机ASML更是唯一的提供者，台积电和三星想实现5nm芯片的生产，就绕不开ASML的光刻机就在大家还在感慨ASML强大实力的同时，芯动科技公司却突然宣布，顿时让已经沉浸已久的光刻机话题再起风波。

中科院入局起作用了根据芯动科技方面的介绍，目前他们已经完成全球首个基于中Xin国际 FinFET N+1 先进工艺的芯片流片和测试，消息一被传出，各家媒体顿时闻风而动。

《珠海特区报》更是不吝啬对其的赞扬：“芯动科技首个基于中芯国际先进工艺的芯片流片和测试成功，不仅意味着具有自主知识产权的‘国产芯’再次打破国外垄断，同时也说明‘国产版’的7nm芯片制造技术已经得到突破”。

为什么芯动科技这次的科技成果能够带来如此之大的轰动呢？其原因就是它是全球首个FinFET N+1工艺，在这种工艺之下生产出来的芯片可以达到跟台积电14nm相同的技术水准，最特别的是，相比之下它的性能提升了20%，而功耗降低了57%，在功率和稳定性方面几乎和台积电7nm相同。

更加值得惊喜的是，此次所有IP全部实现了自主国产，彻底摆脱了国外的技术垄断未来完全可以将这个工艺搭配到普通光刻机上，即使不用ASML的EVU光刻机，中国照样可以制造出等同于台积电的7nm芯片从9月16日中科院正式宣称入局光刻机开始，到目前也只有短短不到一个月的时间，在如此短的时间内，国内对于光刻机的进度就立马提升了一大截，不得不说，中科院作为国家在科学技术方面的最高学术机构，在这里还是起到了一定作用的。

依稀记得曾经比亚迪总裁王传福说过“芯片是人造的，不是神造的”，最近几十年的时间里，中国已经攻克了很多外国人以为我们一辈子都造不出来的产品，比如北斗全球卫星导航系统、盾构机、大型挖泥船、高铁等等再给研发人员一点点时间，芯片国产化也终将成为现实。